國創科儀同步輻射x射線吸收譜儀的X射線吸收過程:當X射線能量達到原子內層電子(如K層、L層)結合能時,電子被激發至未占據態或電離,形成吸收邊(Absorption Edge)。
X射線精細結構分析譜儀(XAFS/XES)是一種用于研究材料局部結構和電子狀態的非破壞性技術。XAFS/XES主要應用于催化劑 、合金、陶瓷、環境污染物、各類晶態和非晶態材料及生物樣品內金屬離子的價態、配位結構及電子狀態分析,以及材料局部結構在熱場、光場、電場和磁場變化下的局部結構動態演化過程研究等。
國創科儀快掃型X射線吸收譜儀 SuperXAFS V8000 是一種用于研究材料局部結構和電子狀態的非破壞性技術。
國創科儀廠家的通用型X射線吸收譜儀SuperXAFS H3000 通過探測原子近鄰環境和價態,在不破壞樣品的前提下實現元素特異性和局域結構分析,尤其適用于傳統表征手段(如 XRD、SEM)難以解決的微觀機制研究。其應用貫穿從基礎科學到工業實踐的多個領域,成為連接原子尺度結構與宏觀性能的關鍵工具。
國創科儀寬能譜X射線吸收譜儀適用性強,滿足全部常規樣品測試的同時,亦可滿足特殊樣品測試,如磷、鉀、錒系、有毒、有放射性樣品等。
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